nano Arch P120
微纳3D打印系统
nanoArch® / microArch® 是可以实现高精度大幅面微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
我们的产品
2μm
10μm
25μm
10~50μm
2μm和10μm
亚微米级3D金属打印
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超高精密3D打印设备产品手册-工业2024.05.08 -
超高精度微尺度3D打印设备产品手册-科研2023.09.27 -
超高精度微尺度3D打印设备产品单页2022.10.09 -
CERES微纳金属增材设备2022.02.22
设备匹配材料
摩方拥有专业的3D打印材料研发团队，能够提供多种高性能3D打印材料：405nm固化波段的通用型光敏树脂，可支持硬性树脂、韧性树脂、耐高温树脂、生物兼容树脂、耐候性树脂、陶瓷浆料等，可根据打印样品的要求选配不同材料。
产品特性
光学系统：405nm光源，定制化设计加工的投影镜头，分辨率达2μm
运动系统：亚微米级多轴运动平台，高精密运动控制系统
拼接打印：微米级拼接融合技术，解决打印精度与大尺寸成型之间的矛盾
软件系统：友好的图形界面控制系统，工艺窗口开源
辅助系统：实时监控相机、沉浸式绷膜、气泡刮刀等
使用环境要求
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电力需求
100-240V/单相/50/60Hz/15A；
供电电网波动： ＜5%；
电网地线符合机房国标要求。 -
环境温度
22±3℃
-
环境湿度
40%-60%
-
需避免的场合
垃圾、灰尘、油雾多的场所；
震动以及冲击多的场所；
能触及药品和易燃易爆物的场所；
高频干扰源附近的场所；
温度会急剧变化的场所；
ဆ
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